金刚石研磨液

GRISH金刚石研磨液(又称抛光液,钻石研磨液)包括多晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。金刚石抛光液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成,配方多样化,对应不同的研抛过程和工件,适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定,广泛用于硬质材料的研磨和抛光。

GRISH金刚石研磨液 

GRISH金刚石研磨液(又称抛光液,钻石研磨液)包括多晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。金刚石抛光液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成,配方多样化,对应不同的研抛过程和工件,适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定,广泛用于硬质材料的研磨和抛光。

 


多晶金刚石研磨液

多晶金刚石研磨液利用多晶金刚石良好的韧性,在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤。广泛用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和抛光。

粒度(μm)     油基     水基粒度(μm)    油基    水基
1/20PC-N50-OPC-N50-W1PC-1-OPC-1-W
1/10PC-N100-OPC-N100-W2PC-2-OPC-2-W
1/5PC-N200-OPC-N200-W3PC-3-OPC-3-W
1/4PC-N250-OPC-N250-W4PC-4-OPC-4-W
1/2PC-N500-OPC-N500-W6PC-6-OPC-6-W



纳米金刚石研磨液

纳米金刚石球形形状和细粒度粉体能达到超精密的抛光效果,且具有良好的分散稳定性,能保持长时间不沉降,粉体在分散液中不发生团聚。广泛用于硬质材料的超精密抛光过程,可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。


粒度(μm)      油基      水基粒度(μm)      油基      水基
1/30DND-30-ODND-30-W1/6DND-160-ODND-160-W
1/20DND-50-ODND-50-W1/5DND-200-ODND-200-W
1/10DND-100-ODND-100-W1/4DND-250-ODND-250-W


单晶金刚石研磨液

单晶金刚石研磨液具有良好的切削力,加工成本相对较低。广泛适用于超硬材料的研磨抛光。

粒度(μm)       油基       水基粒度(μm)     油基   水基
1/20MD-N50-OMD-N50-W1MD-1-OMD-1-W
1/10MD-N100-OMD-N100-W2MD-2-OMD-2-W
1/6MD-N160-OMD-N160-W3MD-3-OMD-3-W
1/4MD-N250-OMD-N250-W4MD-4-OMD-4-W
1/2MD-N500-OMD-N500-W6MD-6-OMD-6-W 




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