GRISH AO0.3精密抛光带

GRISH AO0.3 氧化铝精密抛光带采用先进的混合精密制造的技术，先进的胶粘剂和分级磨料颗粒形成浆料，均匀涂在高强度薄膜上。可应用于CF（彩色滤光片）修复抛光、硬盘盘片抛光和磁头抛光。目前，主要应用于CF修复抛光领域。 

CF是TFT-LCD中非常重要的组成结构，CF必须做到表面平整光洁才能使用。一般地，CF微观缺陷有白点、混色点、突起和洞缺陷。在CF的修复应用方面，GRISH AO0.3 氧化铝精密抛光带主要用于异物和突起缺陷的修复。

图1 抛光过程示意图和抛光设备（NTN） 

在抛光设备中，有一个研磨头，两个高度传感器，一套抛光带运行系统等部件。研磨头可以调节压力，不同材质的材料可以通过调节压力来达到良好的研磨效果。研磨头也可以通过高度传感器来调节高度，以控制研磨压力和研磨效果。通过时间和高度两个主要参数调节从而控制去除量。抛光过程中，高度传感器可以扫描CF上的污点和缺陷点，继而控制研磨头的高度和压力，进而去除缺陷和污点等不良。

影响氧化铝精密抛光带有以下几个主要影响因素：微粉粒度及其分布、带基及抛光带的厚度、抛光带微观表面、抛光带端面裁切状况等，目前，在市场上较为常见的该类产品为V公司的抛光带，下面将就一些指标GRISH。

AO0.3精密抛光带进行说明以及与V公司 抛光带进行对比：

1. 基本技术参数与指标

2. GRISH AO0.3 氧化铝精密抛光带采用的微粉粒度分布集中，晶型规整，严格把关的优质原料是高质量产品的保证

图2  GRISH AO0.3 氧化铝精密抛光带采用的微粉粒度图 

2. 平整的表面

在两公司的两款产品500和10K倍数下的SEM照片中，两款产品表面光滑平整，存在在较大的相似度。 

GRISH 产品SEM照片                         V公司产品SEM照片

图3 两公司抛光带微观对比

4.良好的微观

在两公司的两款产品50K倍数下的SEM照片中，两款产品也存在在较大的相似度。我公司产品所采用微粉晶型较好。

GRISH AO0.3精密抛光带                          V公司 抛光带

图4    GRISH AO0.3精密抛光带与V公司 抛光带在50k倍电镜照片下的对比情况 

5. GRISH AO0.3精密抛光带端面齐整，厚度均一，确保工艺稳定 

 GRISH AO0.3精密抛光带                                   V公司 抛光带

图5    GRISH AO0.3精密抛光带与V公司 抛光带电镜照片下的裁切端面对比情况

综上所述，可以总结得出：我公司生产的GRISH AO0.3精密抛光带与V公司 抛光带在产品参数以及微观角度等方面有着很高的相似度，并且在许多方面优于V公司系列产品。目前，已有多家国内外LCD生产厂家试用合格并在日立及一些欧洲厂家使用。由于GRISH AO0.3精密抛光带同时拥有良好的抛光效果和价格优势以及完善的售前售后服务等等诸多优势，在LCD行业的市场份额也正逐渐扩大。