超精密抛光带

GRISH超精密抛光带是利用先进的精密涂布技术,将微米、亚微米或纳米级研磨微粉(金刚石、碳化硅、氧化铝等)与新型高分子胶粘剂材料均匀分散后,涂附于高强度薄膜表面,然后经过高精度的裁剪工艺加工而成。

GRISH超精密抛光带是利用先进的精密涂布技术,将微米、亚微米或纳米级研磨微粉(金刚石、碳化硅、氧化铝等)与新型高分子胶粘剂材料均匀分散后,涂附于高强度薄膜表面,然后经过高精度的裁剪工艺加工而成。

产品规格

磨料粒度/目数

金刚石(D)

碳化硅(SC)

氧化铝(AO)

80µm #180



60µm #240



45µm #360



40µm #400


30µm #600

20µm #800



16µm #1000

15µm #1200

12µm #1500



9µm #2000

6µm #2500



5μm #3000


3µm #4000

2µm #6000


1µm #8000

0.5µm #10000


0.3µm #15000



宽度

1.2mm, 1.6mm, 2.0mm, 2.5mm 3.0mm,

3.2mm, 3.8mm, 5.0mm, 12.6mm, 101.6mm

长度

45m (150 feet), 100m, 183m (600 feet), 200m

注:除以上规格外,可根据客户的需求提供定制产品。

产品特点

  • 产品质量稳定,能够达到很高的研磨一致性; 

  • 磨削力高,能够达到精密的抛光效果; 

  • 具有较好的强度和柔韧性,能达到理想的曲面抛光效果; 

  • 适用于干法抛光,也适用于以水或者研磨油为研磨介质的抛光。

应用领域

  • 微电机

  • 硬盘 · 磁头

  • 辊轴

  • 半导体材料

  • LCD液晶面板

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