影响抛光皮性能的因素
内部因素：
硬度—抛光皮的硬度决定保持面形精度的能力；
压缩比—压缩比反映抛光皮的抗变形能力；
涵养量—抛光皮的涵养量是单位体积的抛光皮存储抛光液的质量；
粗糙度—表面粗糙度是抛光皮表面的凹凸不平程度；
密度—密度是抛光皮材料的致密程度。
抛光垫的自身硬度、刚性、可压缩性等机械物理性能对抛光质量、材料去除率和抛光垫的寿命有着明显的影响。
抛光垫的硬度决定了其保持形状精度的能力。
采用硬质抛光垫可获得较好工件表面的平面度, 软质抛光垫可获得加工变质层和表面粗糙度都很小的抛光表面。
抛光垫的可压缩性决定抛光过程抛光垫与工件表面的贴合程度, 从而影响材料去除率和表面平坦化程度。
可压缩性大的抛光垫与工件的贴合面积小, 材料去除率高。
衡量抛光垫性能指标有较多，各项物理指标综合影响抛光效果，其中相对关键的指标在于孔隙率、孔隙均匀性等，其对抛光垫的各项物理性能指标及批次一致性影响程度较大。
衡量抛光垫的技术指标主要包含硬度、刚性、韧性、弹性模量剪切模量、密度、可压缩性等机械物理性能。
而其中由于抛光垫在材料配方一定的情况下，孔隙生成的密度和均匀性包含物理、化学及热处理等将直接影响各项抛光垫的物理指标。
目前孔隙生成方式包括惰性气体成孔、预聚物和糖类物质反应成孔等。但其具体生产工艺控制、化学材料选择、配方配比、图形设计等涉及大量Knowhow。
由于涉及到设计及工艺需要企业长期的实践和摸索，抛光垫各系列产品参数及稳定性需要长期积累。
举例来，对比IC1000和IC1010，可以看到，不同孔隙率，硬度，粗糙度均对抛光效果产生不同影响，同时配合沟槽调整综合调整抛光效果。
对比IC1000和IC1010两种规格的抛光垫，两种抛光垫表面的微孔直径都在40um左右，其他物理化学参数大多相似，其中IC1000的孔隙率为48%，IC1010的孔隙率为61.4%。
比较显现，抛光垫的孔隙率越高和粗糙度越大，其携带抛光液的能力越强。
抛光垫越粗糙，则材料去除率增大，这是因为表面粗糙度高的抛光垫与工件表面的接触面积减小, 而且粗糙的抛光垫表面可储存更多的抛光液, 因此作用在单颗磨粒上的力增大, 单颗磨粒的去除材料体积增大。
抛光垫使用后会产生变形，表面变得光滑，孔隙减少和被堵塞，使抛光速率下降，必须进行修整来恢复其粗糙度，改善传输抛光液的能力，一般采用钻石修整器修整。
抛光垫的沟槽图形设计，也是影响抛光性能的核心指标。
抛光垫沟槽的设计影响着抛光垫储存、运送抛光液的能力和表面局部应力梯度。
抛光垫表面结构有平整型和带有不同沟槽型的。
抛光垫表面适度开槽后,储存、运送抛光液的能力显著增强,磨料分布更均匀、工件表面剪切应力高，因此抛光效率和质量都得到提高。
抛光垫表面上的槽本身起着类似于均匀分布磨粒的作用,它通过增加剪切应力保证材料去除率。
抛光垫表面沟槽形式(平行与垂直交叉型或同心环形)、沟槽形状(V型、U型或楔型)、沟槽方向以及沟槽尺寸(深度、宽度和间距)等对磨料的分布和流动、抛光垫的寿命有着显著的影响。
抛光垫沟槽的宽度要适度,太小体现不出开槽效果,太大会使得抛光效率变小,晶片的粗糙度也变差。
抛光垫沟槽的深度对于抛光效果则没有明显的影响。
外部因素：
CMP是由运动学，力学，流体力学，化学，摩擦，磨耗等各种复杂作用来移除材料表面。
影响抛光皮性能的外部因素主要有抛光液的成份&浓度、抛光粉的粒径、压力、速度、时间、温度等。
材料移除量（RP）计算公式：ＲＰ＝Ｋ×Ｐ×Ｖ×Ｔ
【k：比例定数 P：研磨压力 V：研磨速度（磨皮和研磨对象物的相对速度） t：研磨时间】
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