GRISH AO0.3 氧化铝精密抛光带采用先进的混合精密制造的技术,先进的胶粘剂和分级磨料颗粒形成浆料,均匀涂在高强度薄膜上。可应用于CF(彩色滤光片)修复抛光、硬盘盘片抛光和磁头抛光。目前,主要应用于CF修复抛光领域。
CMP技术所采用的设备及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。抛光机、抛光浆料和抛光垫是CMP工艺的3大关键要素,其性能和相互匹配决定CMP能达到的表面平整水平(图1)。其中抛光浆料和抛光垫为消耗品。
I phone 4困惑之玻璃面板易碎 最近一名加州男人LeBuhn非常窝火,他的女儿摔碎了他刚买不久的iPhone 4,一怒之下,他就以集体诉讼的形式将苹果送上了法院,指控其手机设计有缺陷。LeBuhn表示,他女儿仅仅在三英尺高度的地方摔掉iPhone 4就导致玻璃破裂,而苹果的市场宣传则宣称“这种玻璃比塑料硬30倍,用于直升机和高速列车”。 调查机构SquareTrade也曾