研磨液
GRISH多晶金刚石研磨液
GRISH多晶金刚石研磨液（又称钻石抛光液，抛光液）全部使用我公司自产的聚晶金刚石微粉，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易产生划伤。产品研磨速率稳定，抛光表面一致性好。
应用：蓝宝石、硒化锌、激光晶体、光学晶体、玻璃、金属、陶瓷等材料的研磨抛光;手表表盘、手机玻璃面板、摄像头、硬盘磁头、硬盘盘面、金刚石工具、模具等产品的磨抛加工。
| 粒度 (μm) | 油性 | 水性 | 粒度(μm) | 油性 | 水性 |
| 1/20 | PC-N50-O | PC-N50-W | 1 | PC-1-O | PC-1-W |
| 1/10 | PC-N100-O | PC-N100-W | 2 | PC-2-O | PC-2-W |
| 1/5 | PC-N200-O | PC-N200-W | 3 | PC-3-O | PC-3-W |
| 1/4 | PC-N250-O | PC-N250-W | 4 | PC-4-O | PC-4-W |
| 1/2 | PC-N500-O | PC-N500-W | 6 | PC-6-O | PC-6-W |
GRISH类多晶金刚石研磨液
GRISH类多晶金刚石研磨液(简称RCD研磨液)，是使用本公司生产的类多晶金刚石微粉，配合高分散性配方，可以在保持高切削力的同时不易产生划伤。产品抛光速率稳定，产品表面一致性好。
又称高自锐刚石研磨液，是类多晶金刚石微粉配合高分散性配方生产而成。类多晶金刚石磨粒表面粗糙，且具有自锐性，研磨过程汇与工件存在大量接触点，有效提高并保持磨削速率；磨粒表面存在大量细小切削刃，可降低工件表面粗糙度。
应用：蓝宝石、光学镜片、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷、合金等材料的磨抛。
| 粒度(μm) | 水基 | 油基 | 主要用途 |
| 3 | RC-3-W | RC-3-O | 蓝宝石、硬质玻璃等材料的研磨抛光 |
| 4 | RC-4-W | RC-4-O |
| 5 | RC-5-W | RC-5-O |
| 10 | RC-10-W | RC-10-O | 搭配研磨垫使用，可作为一种蓝宝石研磨的替代解决方案 |
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GRISH CMP抛光液
GRISH CMP抛光液是以硅溶胶为原料，针对不同研磨材料的特性进行独特配方设计，保证抛光过程中PH值基本保持不变，从而保证抛光速率的稳定及节约抛光时间。
二氧化硅胶体粒度细,抛光液稳定性和分散均一性好,对抛光工件表面的损伤层极微,可以得到较高的表面质量,广泛用于纳米材料的高平坦化抛光。通过调整抛光液PＨ值,提高产物的排除速率和加强化学反应,可以提高二氧化硅抛光液的抛光效率。
应用：硅、锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、钽酸锂、陶瓷、蓝宝石、金属、玻璃等材料的抛光。光纤连接器、硬盘盘片、液晶面板、光学镜头、精密模具表面等产品抛光。
GRISH纳米金刚石研磨液
GRISH纳米金刚石研磨液（又称抛光液，钻石研磨液）包括聚晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。金刚石抛光液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成，配方多样化，对应不同的研抛过程和工件，适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定，广泛用于硬质材料的研磨和抛光。
GRISH单晶金刚石研磨液
GRISH单晶金刚石研磨液具有良好的切削力，加工成本相对较低。广泛适用于超硬材料的研磨抛光。
单晶金刚石研磨液具有良好的切削力，加工成本相对较低。广泛适用于超硬材料的研磨抛光。
应用：蓝宝石、硒化锌、激光晶体、光学晶体、玻璃、金属、陶瓷等材料的研磨抛光;手表表盘、手机玻璃面板、摄像头、硬盘磁头、硬盘盘面、金刚石工具、模具等产品的磨抛加工。