研磨液

GRISH研磨液包含多晶金刚石研磨液、类多晶金刚石研磨液、纳米金刚石研磨液、CMP研磨液等。

研磨液


GRISH多晶金刚石研磨液

GRISH多晶金刚石研磨液(又称钻石抛光液,抛光液)全部使用我公司自产的聚晶金刚石微粉,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易产生划伤。产品研磨速率稳定,抛光表面一致性好。

应用:蓝宝石、硒化锌、激光晶体、光学晶体、玻璃、金属、陶瓷等材料的研磨抛光;手表表盘、手机玻璃面板、摄像头、硬盘磁头、硬盘盘面、金刚石工具、模具等产品的磨抛加工。

粒度 (μm) 油性水性粒度(μm)油性水性
1/20PC-N50-OPC-N50-W1PC-1-OPC-1-W
1/10PC-N100-OPC-N100-W2PC-2-OPC-2-W
1/5PC-N200-OPC-N200-W3PC-3-OPC-3-W
1/4PC-N250-OPC-N250-W4PC-4-OPC-4-W
1/2PC-N500-OPC-N500-W6PC-6-OPC-6-W


GRISH类多晶金刚石研磨液

GRISH类多晶金刚石研磨液(简称RCD研磨液),是使用本公司生产的类多晶金刚石微粉,配合高分散性配方,可以在保持高切削力的同时不易产生划伤。产品抛光速率稳定,产品表面一致性好。

又称高自锐刚石研磨液,是类多晶金刚石微粉配合高分散性配方生产而成。类多晶金刚石磨粒表面粗糙,且具有自锐性,研磨过程汇与工件存在大量接触点,有效提高并保持磨削速率;磨粒表面存在大量细小切削刃,可降低工件表面粗糙度。

应用:蓝宝石、光学镜片、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷、合金等材料的磨抛。

粒度(μm)水基油基主要用途
3RC-3-WRC-3-O蓝宝石、硬质玻璃等材料的研磨抛光
4RC-4-WRC-4-O
5RC-5-WRC-5-O
10RC-10-WRC-10-O搭配研磨垫使用,可作为一种蓝宝石研磨的替代解决方案




GRISH CMP抛光液

GRISH CMP抛光液是以硅溶胶为原料,针对不同研磨材料的特性进行独特配方设计,保证抛光过程中PH值基本保持不变,从而保证抛光速率的稳定及节约抛光时间。 

二氧化硅胶体粒度细,抛光液稳定性和分散均一性好,对抛光工件表面的损伤层极微,可以得到较高的表面质量,广泛用于纳米材料的高平坦化抛光。通过调整抛光液PH值,提高产物的排除速率和加强化学反应,可以提高二氧化硅抛光液的抛光效率。

应用:硅、锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、钽酸锂、陶瓷、蓝宝石、金属、玻璃等材料的抛光。光纤连接器、硬盘盘片、液晶面板、光学镜头、精密模具表面等产品抛光。


GRISH纳米金刚石研磨液

GRISH纳米金刚石研磨液(又称抛光液,钻石研磨液)包括聚晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。金刚石抛光液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成,配方多样化,对应不同的研抛过程和工件,适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定,广泛用于硬质材料的研磨和抛光。          

 

GRISH单晶金刚石研磨液

GRISH单晶金刚石研磨液具有良好的切削力,加工成本相对较低。广泛适用于超硬材料的研磨抛光。

单晶金刚石研磨液具有良好的切削力,加工成本相对较低。广泛适用于超硬材料的研磨抛光。

应用:蓝宝石、硒化锌、激光晶体、光学晶体、玻璃、金属、陶瓷等材料的研磨抛光;手表表盘、手机玻璃面板、摄像头、硬盘磁头、硬盘盘面、金刚石工具、模具等产品的磨抛加工。


电话
产品中心
应用行业
样品索取