GRISH多晶金刚石研磨液是由多晶金刚石微粉，配合水、油等液体配制而成的研磨液，可最大限度的提高切削力和抛光效率。产品去除率高、研磨速率稳定，抛光表面一致性好。根据研磨材质和客户需求不同，我们还可以提供专门定制的产品和研磨工艺。
GRISH金刚石研磨液包括单晶金刚石（MD）和高自锐金刚石（RCD）系列，适用于不同的应用领域。配方多样化，对应不同的研磨抛光过程和工件，适用性强。产品分散性好、粒度分布均匀、规格齐全、质量稳定。有水基和油基两种，广泛用于硬材料的研磨和抛光。
CMP抛光液是针对不同研磨材料的特性进行独特的配方设计，抛光过程中，pH值基本保持不变，从而保证抛光速率的稳定，并节约抛光时间。广泛用于多种材料纳米级的化学机械抛光。如：蓝宝石材料、硅片、不锈钢、铝镁合金、化合物晶体等的抛光加工。
GRISH氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点
GRISH纳米金刚石研磨液（又称抛光液，钻石研磨液）包括聚晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。金刚石抛光液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成，配方多样化，对应不同的研抛过程和工件，适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定，广泛用于硬质材料的研磨和抛光。
我公司针对化合物半导体有对应的抛光工艺及耗材，包含碳化硅、氮化铝、氮化镓、砷化镓、磷化铟等，同时还承接各类代加工业务。
GRISH CO/AO/SC系列抛光液，是以微米或亚微米级氧化铈、氧化铝和碳化硅为磨料的系列抛光液。该系列产品能满足高精密光学仪器、微晶玻璃、磁头、化合物晶体、陶瓷、光纤连接器、硬质合金等方面的精密抛光要求。