GRISH金刚石研磨液
GRISH金刚石研磨液(又称抛光液,钻石研磨液)包括多晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。金刚石抛光液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成,配方多样化,对应不同的研抛过程和工件,适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定,广泛用于硬质材料的研磨和抛光。
多晶金刚石研磨液
多晶金刚石研磨液利用多晶金刚石良好的韧性,在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤。广泛用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和抛光。
粒度(μm) |
油基 |
水基 | 粒度(μm) |
油基 |
水基 |
1/20 | PC-N50-O | PC-N50-W | 1 | PC-1-O | PC-1-W |
1/10 | PC-N100-O | PC-N100-W | 2 | PC-2-O | PC-2-W |
1/5 | PC-N200-O | PC-N200-W | 3 | PC-3-O | PC-3-W |
1/4 | PC-N250-O | PC-N250-W | 4 | PC-4-O | PC-4-W |
1/2 | PC-N500-O | PC-N500-W | 6 | PC-6-O | PC-6-W |
纳米金刚石研磨液
纳米金刚石球形形状和细粒度粉体能达到超精密的抛光效果,且具有良好的分散稳定性,能保持长时间不沉降,粉体在分散液中不发生团聚。广泛用于硬质材料的超精密抛光过程,可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。
粒度(μm) |
油基 |
水基 | 粒度(μm) |
油基 |
水基 |
1/30 | DND-30-O | DND-30-W | 1/6 | DND-160-O | DND-160-W |
1/20 | DND-50-O | DND-50-W | 1/5 | DND-200-O | DND-200-W |
1/10 | DND-100-O | DND-100-W | 1/4 | DND-250-O | DND-250-W |
单晶金刚石研磨液
单晶金刚石研磨液具有良好的切削力,加工成本相对较低。广泛适用于超硬材料的研磨抛光。
粒度(μm) |
油基 |
水基 | 粒度(μm) |
油基 | 水基 |
1/20 | MD-N50-O | MD-N50-W | 1 | MD-1-O | MD-1-W |
1/10 | MD-N100-O | MD-N100-W | 2 | MD-2-O | MD-2-W |
1/6 | MD-N160-O | MD-N160-W | 3 | MD-3-O | MD-3-W |
1/4 | MD-N250-O | MD-N250-W | 4 | MD-4-O | MD-4-W |
1/2 | MD-N500-O | MD-N500-W | 6 | MD-6-O | MD-6-W |