一站式超精密研磨抛光解决方案
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磨料粒度分布较窄,微粉颗粒细小;特殊配方,分散性、悬浮性好,抛光基本无划痕,抛光表面一致性好。
优异的超精细抛光效果,可使工件表面粗糙度达到0.2nm以下。
除以上规格外,可根据您的需求提供定制产品。 联系我们
半导体
国瑞升可以为半导体行业晶圆边缘抛光,衬底减薄磨抛,窗口片和芯片研磨抛光。
光学晶体
国瑞升可以为光学玻璃、宝石、微晶玻璃、石英晶体等提供精密研磨抛光耗材及工艺。
陶瓷
国瑞升可以为硬质陶瓷、氮化铝基材、氮化硅基材等提供精密研磨抛光耗材及工艺。
CO/AO/SC系列抛光液
研磨液与研磨膏
去蜡液
多效研磨助剂
半导体抛光液
研磨油
类多晶金刚石研磨液
CMP抛光液
金刚石研磨膏
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