多晶金刚石研磨液

GRISH多晶金刚石研磨液是由多晶金刚石微粉,配合水、油等液体配制而成的研磨液,可最大限度的提高切削力和抛光效率。产品去除率高、研磨速率稳定,抛光表面一致性好。根据研磨材质和客户需求不同,我们还可以提供专门定制的产品和研磨工艺。

多晶金刚石研磨液

GRISH多晶金刚石研磨液是由多晶金刚石微粉,配合水、油等液体配制而成的研磨液,可最大限度的提高切削力和抛光效率。产品去除率高、研磨速率稳定,抛光表面一致性好。根据研磨材质和客户需求不同,我们还可以提供专门定制的产品和研磨工艺。


产品规格

型号

粒度

水性

油性

PC-6-W

PC-6-O

6µm

PC-4-W

PC-4-O

4µm

PC-3-W

PC-3-O

3µm

PC-2-W

PC-2-O

2µm

PC-1-W

PC-1-O

1µm

PC-N500-W

PC-N500-O

1/2µm

PC-N250-W

PC-N250-O

1/4µm

PC-N200-W

PC-N200-O

1/5µm

PC-N100-W

PC-N100-O

1/10µm

PC-N50-W

PC-N50-O

1/20µm

注:除以上规格外,可根据客户的需求提供定制产品。


工艺及性能对比

项目

竞争对手

GRISH

效果提升

单次加工量

20 pcs/round

28 pcs/round

产能提升+40%

移除率

2.15 µm/min

2.575 um/min

速率提升+20%

Ra

8nm-12nm

8nm-12nm

-

消耗

约10ml/片

7ml/片

钻石液节约

 -30%


产品特点

  • 微粉原料自产,保证选择优质微粉材料; 

  • 特殊配方,分散性好,去除率高,划痕少;

  • 产品研磨速率稳定,抛光表面一致性好。


应用领域

  • 蓝宝石

  • CMP抛光液配合线切割金刚石微粉和砂浆、B₄C悬浮液和悬浮剂、单晶多晶类多晶金刚石研磨液和微粉、氧化铝抛光液、抛光垫等超精密研磨抛光配套耗材与国瑞升平面抛光机。


  • 适用于磷化铟、砷化镓、碳化硅、氮化镓、氧化镓等衬底材料,

  • 氮化铝、氮化铝、氧化铝等陶瓷基板散热材料,

  • 钽酸锂、铌酸锂、硒化锌、硫化锌、氟化钡、氟化钙等光学晶体材料。


  • 能够有效降低被加工晶片的划伤率,成品合格率高达95%以上,损伤层<5μm,表面光洁效果好,研磨抛光效率能提高2-3倍,耗材使用量较传统工艺节省30-40%,与海外同类产品相比拥有明显性价比优势!

  • (以上数据来源于国瑞升实验室测试数据,仅做参考,实际情况依据客户不同而有所变动)

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