单晶、类多晶金刚石研磨液
GRISH金刚石研磨液包括单晶金刚石（MD）和高自锐金刚石（RCD）系列，适用于不同的应用领域。
配方多样化，对应不同的研磨抛光过程和工件，适用性强。产品分散性好、粒度分布均匀、规格齐全、质量稳定。有水基和油基两种，广泛用于硬材料的研磨和抛光。
产品规格
型号 | 粒度 |
水基 | 油基 |
MD-6-W | MD-6-O | 6µm |
MD-4-W | MD-4-O | 4µm |
MD-3-W | MD-3-O | 3µm |
MD-2-W | MD-2-O | 2µm |
MD-1-W | MD-1-O | 1µm |
MD-N500-W | MD-N500-O | 1/2µm |
MD-N250-W | MD-N250-O | 1/4µm |
MD-N160-W | MD-N160-O | 1/6µm |
MD-N100-W | MD-N100-O | 1/10µm |
MD-N50-W | MD-N50-O | 1/20µm |
注：除以上规格外，可根据客户的需求提供定制产品。
类多晶（RCD）金刚石研磨液使用本公司生产的高自锐金刚石微粉，配合高分散性配方，可以在保持高切削力的同时不易产生划伤，产品抛光速率稳定。主要用于蓝宝石材料、光学镜片、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金等材料的研磨和抛光。
型号 | 粒度 |
水基 | 油基 |
RC-18-W | RC-18-O | 18µm |
RC-10-W | RC-10-O | 10µm |
RC-6-W | RC-6-O | 6µm |
RC-5-W | RC-5-O | 5µm |
RC-4-W | RC-4-O | 4µm |
RC-3-W | RC-3-O | 3µm |
注：除以上规格外，可根据客户的需求提供定制产品。
应用领域