单晶、类多晶金刚石研磨液

GRISH金刚石研磨液包括单晶金刚石(MD)和高自锐金刚石(RCD)系列,适用于不同的应用领域。配方多样化,对应不同的研磨抛光过程和工件,适用性强。产品分散性好、粒度分布均匀、规格齐全、质量稳定。有水基和油基两种,广泛用于硬材料的研磨和抛光。

单晶、类多晶金刚石研磨液

GRISH金刚石研磨液包括单晶金刚石(MD)研磨液和类多晶金刚石(RCD)研磨液系列,适用于不同的应用领域。

配方多样化,对应不同的研磨抛光过程和工件,适用性强。产品分散性好、粒度分布均匀、规格齐全、质量稳定。有水基和油基两种,广泛用于硬材料的研磨和抛光。


单晶金刚石研磨液

单晶金刚石研磨液具有良好的切削力,加工成本相对较低。广泛适用于超硬材料的研磨抛光。

应用:蓝宝石、硒化锌、激光晶体、光学晶体、玻璃、金属、陶瓷等材料的研磨抛光;手表表盘、手机玻璃面板、摄像头、硬盘磁头、硬盘盘面、金刚石工具、模具等产品的磨抛加工。


类多晶金刚石研磨液

又称高自锐刚石研磨液,是类多晶金刚石微粉配合高分散性配方生产而成。类多晶金刚石磨粒表面粗糙,且具有自锐性,研磨过程汇与工件存在大量接触点,有效提高并保持磨削速率;磨粒表面存在大量细小切削刃,可降低工件表面粗糙度。

应用:蓝宝石、光学镜片、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷、合金等材料的磨抛。


产品规格

  • MD 金刚石研磨液

型号

粒度

水基

油基

MD-6-W

MD-6-O

6µm

MD-4-W

MD-4-O

4µm

MD-3-W

MD-3-O

3µm

MD-2-W

MD-2-O

2µm

MD-1-W

MD-1-O

1µm

MD-N500-W

MD-N500-O

1/2µm

MD-N250-W

MD-N250-O

1/4µm

MD-N160-W

MD-N160-O

1/6µm

MD-N100-W

MD-N100-O

1/10µm

MD-N50-W

MD-N50-O

1/20µm

注:除以上规格外,可根据客户的需求提供定制产品。


  • RCD 金刚石研磨液

类多晶(RCD)金刚石研磨液使用本公司生产的高自锐金刚石微粉,配合高分散性配方,可以在保持高切削力的同时不易产生划伤,产品抛光速率稳定。主要用于蓝宝石材料、光学镜片、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金等材料的研磨和抛光。

型号

粒度

水基

油基

RC-18-W

RC-18-O

18µm

RC-10-W

RC-10-O

10µm

RC-6-W

RC-6-O

6µm

RC-5-W

RC-5-O

5µm

RC-4-W

RC-4-O

4µm

RC-3-W

RC-3-O

3µm

注:除以上规格外,可根据客户的需求提供定制产品。


应用领域

  • 蓝宝石


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