MPO/MTP抛光垫

GRISHMPO/MTP抛光垫,具有极佳的相互连接的微孔结构,在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定性/耐磨性。可配合我司研磨液系列产品配套使用,适用于MPO/MTP的超精密抛光。

MPO/MTP抛光垫

GRISH的MPO/MTP抛光垫,具有极佳的相互连接的微孔结构,在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定性/耐磨性。可配合我司研磨液系列产品配套使用,适用于MPO/MTP的超精密抛光。


产品规格

材质 聚氨酯
磨料 无
颜色 黑色
厚度(mm) 0.70-1.10
邵氏硬度(A) 70-90
密度(g/cm3) 0.500-0.700
常用规格圆形:Φ127mm,带背胶;
方形:
140mm*140mm,带背胶


产品特点

  • 质量稳定,耐磨性好;

  • 具有良好的柔软度和弹性,能有效避免划伤;

  • 表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液,提高抛光效率;

  • 背胶易撕,不留残胶,使用方便。


使用说明

  • 撕离PU系列抛光垫背面离型纸,将抛光垫均匀贴附于玻璃垫上,注意不要留有气泡;

  • 配合AO及CO系列研磨液使用。

  • 每次使用完毕请及时用清水清洁。

 

应用领域

  • 广泛应用于晶片/玻璃/金属/陶瓷的高平坦化加工


玻底培养皿和玻底培养板使用方法(以35mm皿,10mm孔为例)

预平衡:在玻底培养皿加入3ml培养液,在培养箱中放置15分钟。

加细胞:吸去培养液,在底孔中加入500ul含细胞的培养液。在培养箱中放置2小时,让细胞沉降贴壁。


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