CO/AO/SC系列抛光液

GRISH CO/AO/SC系列抛光液,是以微米或亚微米级氧化铈、氧化铝和碳化硅为磨料的系列抛光液。该系列产品能满足高精密光学仪器、微晶玻璃、磁头、化合物晶体、陶瓷、光纤连接器、硬质合金等方面的精密抛光要求。

CO/AO/SC系列抛光液

GRISH CO/AO/SC系列抛光液,是以微米或亚微米级氧化铈、氧化铝和碳化硅为磨料的系列抛光液。该系列产品能满足高精密光学仪器、微晶玻璃、磁头、化合物晶体、陶瓷、光纤连接器、硬质合金等方面的精密抛光要求。


       二氧化铈抛光液

二氧化铈是玻璃抛光的通用磨削材料。二氧化铈抛光液具有高选择性和抛光终点自动停止的特性,用于集成电路STI的抛光。目前制备的二氧化铈粒径多为微米级或亚微米级,粒度较大,分布均匀性一般,抛光工件表面易有划痕。

应用:硅、锗、砷化镓、磷化铟、光学晶体、蓝宝石、硒化锌、石英抛光。


氧化铝抛光液

氧化铝抛光液称为刚玉,硬度高,六角柱体晶格结构,适合再研磨材料。且相对比钻石更低廉的价钱。所以氧化铝它成为研磨和抛光的好材料。

应用:各类金属抛光,单晶矽片,线材端子,铝合金、光学镜头、单芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面、蓝宝石晶片、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带等各种精密产品的研磨抛光。


产品规格

系列 型号 粒度(D50) 应用 

碳化硅

(SC)

SC-1/20.5-1μm 光纤连接器、硬盘、陶瓷、硬质合金、各种宝石、光学玻璃等 
SC-10.8-1.2μm 

氧化铝

(AO) 

AO-1/3 0.2-0.4μm 光纤连接器、晶体(Si、Ge、GaAs、InP、SiC)、硬盘基片、陶瓷、硬质合金、不锈钢及光学玻璃 
AO-1/2 0.4-0.6μm 
AO-1 0.8-1.2μm 
AO-2 1.6-2.4μm 
AO-3 2.6-3.6μm 

氧化铈

(CO)  

CO-1/3 0.2-0.4μm 光纤连接器、透镜、硬质合金、宝石、光学玻璃等。 
CO-1/2 0.4-0.6μm 
CO-1 0.8-1.2μm 
包装规格 250ml/瓶, 500ml/瓶, 1L/瓶, 1加仑/瓶  

注:除以上规格外,可根据客户的需求提供定制产品。


产品特点

  • 分散性好;

  • 实际尺寸分布均匀;

  • 较高的去除率。


应用领域

  • 光学晶体


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