氧化硅抛光液

GRISH氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点

氧化硅抛光液

我公司氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。可生产不同粒度(10~150 nm)的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。


产品规格

碱性型号(pH:9.8±0.5)SOQ-2ASOQ-4ASOQ-6ASOQ-8ASOQ-10ASOQ-12D
酸性型号(pH:2.8±0.5)ASOQ-2AASOQ-4AASOQ-6AASOQ-8AASOQ-10AASOQ-12D
粒径(nm)10~3030~5050~7070~9090~110110~130
外观乳白色或半透明液体
比重1.15±0.05
组成成份含量(w%)
SiO215~30
Na2O≤0.3
重金属杂质≤50 ppb


产品的特点:

  • 高抛光速率,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的(可以生产150 nm)

  • 粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品(10-150 nm)

  • 高纯度(Cu2+含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污

  • 高平坦度加工,本品抛光是利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工


应用领域

  • 光通讯行业



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