抛光垫

GRISH抛光垫具有优异的互相连接的微孔结构,在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定性、耐磨性和优异的浆料保持性,广泛应用于晶片、玻璃、金属和陶瓷的高平坦化加工。

GRISH抛光垫

     
       GRISH抛光垫具有优异的互相连接的微孔结构,在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定性、耐磨性和优异的浆料保持性,广泛应用于晶片、玻璃、金属和陶瓷的高平坦化加工。

 

产品规格 

项目产品规格测试方法
厚度(mm1.4±0.1游标卡尺测量
硬度60±2邵氏(A)硬度计测量
孔深(mm0.37显微镜放大200倍比对样品无明显差异
压缩率(百分比)9-
绒长(mm0.4±0.05显微镜放大200倍比对样品无明显差异
尺寸(mmΦ920±2卷尺测量

备注1:可根据顾客需求提供不同厚度、尺寸的抛光垫产品;    
备注2:可根据顾客需要进行开槽和背胶处理。


产品特点

  • 质地细腻、平整度优异、不脱毛;

  • 高去除速率;

  • 优异的抛光重复性,表现稳定;

  • 抛光后可以达到无划痕、无橘皮的镜面效果。

 

应用领域
       GRISH抛光垫用于蓝宝石、硅晶片等硬脆材料的终道CMP抛光,也可用于不锈钢、铝合金等金属材料的镜面抛光。




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