精细抛光粉

GRISH精细抛光粉有碳化硅系列、氧化铝系列和氧化铈系列三种,产品具有粒径分布集中、形貌均匀、分散性优异等特点,主要应用于光学器件、光纤器件、显示面板、半导体基片、硬盘、磁头等的抛光。

精细抛光粉

GRISH精细抛光粉有碳化硅系列、氧化铝系列和氧化铈系列三种,产品具有粒径分布集中、形貌均匀、分散性优异等特点,主要应用于光学器件、光纤器件、显示面板、半导体基片、硬盘、磁头等的抛光。

产品规格

磨料

型号

粒径

碳化硅

 (SC)

GC1000

13.5µm-16.5µm

GC4000

3.0µm-3.8µm

GC10000

0.3µm-0.7µm

氧化铝

(AO)

AO10000

0.4µm-0.6µm

AO15000

0.25µm-0.4µm

氧化铈

(CO)

CO2

1.9µm-2.3µm

CO1.5

1.1µm-1.5µm

CO1

0.8µm-1.2µm

CO0.5

0.5μm-0.8μm

注:除以上规格外,可根据客户的需求提供定制产品。


产品特点

  • 粒径细小,抛光效果可调,能满足各种抛光要求;

  • 集中的粒径分布和良好的晶体形状,可在短时间内达到高精度的抛光效果; 

  • 产品纯度可达99.99%, 满足磁记录材料(如硬盘),和半导体材料(如单晶硅)等高技术领域的加工要求。



应用领域

  • 半导体


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