一种用于锑化镓单晶片的抛光方法(2)

一种用于锑化镓单晶片的抛光方法(2)

2021-11-22 13:02:00 0

来源:网络,仅做知识分享,侵权联系删除!

【具体实施方式】

[0010]以下结合实施例对本发明做进一步说明。


[0011]锑化镓单晶片的加工流程包括研磨、抛光、钝化和清洗,本发明主要针对其中的抛光步骤。首先去除锑化镓切割片表面的刀痕,将其研磨至均匀的厚度;随后将研磨好的锑化镓单晶片清洗干净,用石英蜡将锑化镓单晶片(Φ 50 mm)均匀的粘贴在陶瓷载盘上并压实,用酒精擦除陶瓷载盘及晶片表面多余的蜡,清洗干净。


[0012]实施例:

第一步粗抛光:粗抛光采用氧化铈抛光垫,抛光液中含有粒径为Wl的氧化铝磨料,抛光压力为160 g/cm2,转速30转/分钟,抛光液流量为30 mL/min。粗抛光使用的抛光液按重量百分比由以下组分混合制成:Wl氧化铝磨料25%;助磨剂6.5%;分散剂4.5%;去离子水为64%。


[0013]第二步中抛光:中抛光采用黑色聚氨酯抛光垫,抛光液中含有粒径为75nm的二氧化硅纳米磨料和氧化剂次氯酸钠,抛光压力为120 g/cm2,转速为85转/分钟,抛光液流量为20 mL/min。中抛光使用的抛光液按重量百分比由以下组分混合制成:粒径为75 nm的二氧化硅纳米磨料20%;磷酸0.03%;次氯酸钠3%;去离子水为76.97% ;pH值控制在6。


[0014]第三步精抛光:精抛光采用黑色合成革抛光布,抛光液为无磨料抛光液,抛光压力为70 g/cm2,转速为45转/分钟,抛光液流量为7.5 mL/min。精抛光使用的抛光液按重量百分比由以下组分混合制成:双氧水8% ; pH值调节剂3.2% ;去离子水为88.8% ; pH值控制在4。


[0015]化学机械抛光之后,将陶瓷盘取下,迅速使用去离子水对陶瓷盘进行喷淋,然后进行后续的钝化和清洗工序。


[0016]本发明的作用原理:由于GaSb的活性大,锑的氧化物具有钝化作用且难溶,因此腐蚀液与GaSb的化学作用比较困难。


另外,由于锑化镓材料脆性较大,表面极易氧化和损伤,要得到这种材料高质量抛光表面是非常困难的。本发明提出了一种用于锑化镓单晶片的抛光方法,分为粗抛光、中抛光和精抛光三部分。


粗抛光米用硬度较大的氧化招磨料,依靠较强的机械作用,将GaSb晶片快速去除到目标厚度;中抛光的作用是去除粗抛光工序中的损伤层,采用含有氧化剂次氯酸钠和纳米二氧化硅的抛光液,次氯酸钠与GaSb晶片表面发生化学反应,生成锑的氧化物和镓的氧化物,然后依靠纳米二氧化硅的机械作用去除,此过程抛光之后GaSb晶片表面无划痕;最后一步的精抛光,采用硬度较小的抛光布和无磨料抛光液,对中抛光后的晶片进行抛光,此过程中晶片表面的去除量很小,仅仅起到精修作用,在精抛光之后晶片表面既无划痕又无腐蚀坑等缺陷。


【主权项】


1.一种用于锑化镓单晶片的抛光方法,其特征在于,锑化镓单晶片的抛光分三步完成,分别是粗抛光、中抛光和精抛光,其步骤如下: 


第一步粗抛光:粗抛光采用氧化铈抛光垫,抛光液中含有粒径为Wl的氧化铝磨料,抛光压力为100?200 g/cm2,转速10?40转/分钟,抛光液流量为10-50 mL/min; 


第二步中抛光:中抛光采用黑色聚氨酯抛光垫,抛光液中含有粒径为60-100 nm的二氧化硅纳米磨料和氧化剂次氯酸钠,抛光压力为80-150 g/cm2,转速为60-100转/分钟,抛光液流量为10-30 mL/min; 


第三步精抛光:精抛光采用黑色合成革抛光布,抛光液为无磨料抛光液,抛光压力为30-100 g/cm2,转速为20-60转/分钟,抛光液流量为5-10 mL/min。


2.根据权利要求1所述的一种用于锑化镓单晶片的抛光方法,其特征在于,粗抛光使用的抛光液按重量百分比由以下组分组成:Wl氧化铝磨料10-30%;助磨剂5?10%;分散剂卜10%;其余为去离子水。3.根据权利要求1所述的一种用于锑化镓单晶片的抛光方法,其特征在于,中抛光使用的抛光液按重量百分比由以下组分组成:二氧化硅纳米磨料10?30%;磷酸0.01-0.2%;次氯酸钠卜10%;其余为去离子水。4.根据权利要求1所述的一种用于锑化镓单晶片的抛光方法,其特征在于,精抛光使用的抛光液按重量百分比由以下组分组成:双氧水0.1-10 %; PH值调节剂0.01?5%;其余为去离子水。


【文档编号】B24B37/04GK106064326SQ201610615129


【公开日】2016年11月2日


【申请日】2016年8月1日


【发明人】高飞, 李晖, 徐世海, 张颖武, 练小正, 张弛, 王磊, 徐永宽, 程红娟


【申请人】中国电子科技集团公司第四十六研究所


GRISH

GRISH

更多产品信息欢迎您进店选购!

https://bjgrish1.1688.com

关于国瑞升GRISH®--精密抛光材料专家&专注精密抛光20年

北京国瑞升科技股份有限公司成立于2001年6月,是国内专业从事研发、生产、经营超精密研磨抛光材料的国家级高新技术企业,是具有多项国际国内自主知识产权、多年产品技术研发经验和众多客户应用实践沉淀的业界先驱。

( https://www.bjgrish.com )


国瑞升GRISH®以精准服务为客户提供专业化、定制化的研磨抛光解决方案,以及多种配套化、系列化的精密研磨抛光材料产品、工艺和设备,专注解决客户超精密研磨抛光的高端需求,助力客户成功!


其中国瑞升GRISH®研发生产的超精密抛光膜&抛光带、静电植砂研磨带&抛光带、3D立体凹凸磨料、单晶&多晶&类多晶--金刚石微粉及对应研磨液、CMP抛光液、研磨助剂等多种超精密抛光耗材,广泛应用于光通信、汽车、半导体、LED、蓝宝石、精密陶瓷、LCD、3C电子、辊轴、口腔医疗等多个行业,并已出口至美国、英国、德国、俄罗斯、日本、韩国、印度、巴西等多个国家和地区。


GRISH

欢迎您关注

GRISH

国瑞升GRISH®

以专业化、系列化、

配套化、定制化的产品,

精准服务,助客户成功!

电话
产品中心
应用行业
样品索取