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2020.08.16
碳化硅(SiC) 衬底片的工艺优化和对应抛光耗材
优化后的工艺条件的优势只要集中在第二道粗抛工序上，这一道工艺由粗抛液（GRISH复合粗抛液）匹配对应的粗抛垫具有较快的抛光速率，关键是表面粗糙度较小，便可大大减少精抛工序的压力。精抛液是针对碳化硅材料做的配方设计，也同时具有较高的抛光速率还能提高产品表面质量。总之整体可减少目前碳化硅衬底的加工工序，提高生产效率。
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2020.07.11
研磨耗材在义齿加工及牙体修复方面的应用
义齿产品对于外观有非常高的要求，国瑞升的义齿加工抛光耗材，能解决不同环节的抛光需求
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2020.07.01
北京国瑞升成功参加2020 SEMICON China展
此次展出的蓝宝石衬底硬抛方案，碳化硅、砷化镓等第二代第三代半导体材料的抛光工艺，氮化铝/氮化硅散热基板抛光解决方案，金属材料的研磨抛光解决方案，吸引了大家的注意，并受到来访客户的极大关注，针对客户的咨询，现场的小伙伴们都给与了耐心的解答。
