国瑞升优势
- GRISH抛光液具有较高的去除率和稳定的抛光性能，光学晶体表面可达到Ra<0.1nm和TTV<3um。产品环保，可回收；
- 在光学晶体领域拥有20余年的技术积累经验，可为您提供可靠和专业的服务；
- 12000m²的现代化工厂和专业稳健的生产团队，能确保产品的稳定性和一致性。
应用
关于光学晶体
如何抛光
CMP抛光液配合线切割金刚石微粉和砂浆、B₄C悬浮液和悬浮剂、单晶多晶类多晶金刚石研磨液和微粉、氧化铝抛光液、抛光垫等超精密研磨抛光配套耗材与国瑞升平面抛光机，适用钽酸锂、铌酸锂、硒化锌、硫化锌、氟化钡、氟化钙等光学晶体材料。
能够有效降低被加工晶片的划伤率，成品合格率高达95%以上，损伤层＜5μm，表面光洁效果好，研磨抛光效率能提高2-3倍，耗材使用量较传统工艺节省30-40%，与海外同类产品相比拥有明显性价比优势！
（以上数据来源于国瑞升实验室测试数据，仅做参考，实际情况依据客户不同而有所变动）
视频
半导体加工研磨视频
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